激光打標場鏡

工作在物鏡焦面附近的透鏡稱為場鏡。人們也稱之為：F-Theta場鏡，f-θ場鏡，激光掃描聚焦鏡，平場聚焦鏡。它是在不改變光學系統光學特性的前提下，改變成像光束位置。場鏡經常被應用1064nm、10.6微米、532nm和355nm的光學系統中。

場鏡的主要作用是：

（1）提高邊緣光束入射到探測器的能力；

（2）在相同的主光學系統中，附加場鏡將減少探測器的面積。如果使用同樣的探測器的面積，可擴大視場，增加入射的通量；

（3）可讓出像面位置放置調制盤，以解決無處放置調制器的問題；

（4）使探測器光敏面上的非均勻光照得以均勻化；

（5）當使用平像場鏡時，可獲得平場像面；

（6）在像差校正方面，可以補償系統的場曲和畸變。

場鏡的主要技術參數有：

工作波長、入射光瞳、掃描范圍 和聚焦光斑直徑。

F-theta場鏡、激光聚焦鏡頭、激光準直鏡組、遠心鏡頭以及各種工業鏡頭。廣泛

應用于激光切割、激光焊接、激光打標、工業相機、視覺系統等等

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